制药设备清洗工艺的关键参数包括清洗时间（time），清洗剂种类（cleaning agent），清洗剂浓度（concentration）和清洗温度（temperature）。其中清洗剂的选择是清洁工艺开发的首要问题。
使用专门为制药工艺设计的清洗剂，是越来越多的制药企业所乐于接受事情，主要因为复合配方清洗剂比传统的酸碱试剂具有清洗能力强、安全、易漂洗的特点。
下面以制药清洗剂cip100和naoh溶液的为例来说明这一点。
cip100清洗剂的应用特点：
a. 碱性，适用于大多数的制药工业清洗；
b. 稳定的表面活性剂配方，有效去除各种污渍；
c. 低泡配方设计，更有利于cip系统；
d. 对不锈钢及玻璃均有良好兼容性；
通过以下几点简单的对比，可以发现cip100与naoh相比具有非常明显的优势：
1. cip100包含多种清洗机制（润湿、乳化、水解等），具有更强的清洗能力，见下表。
例：培养基污染物的去除
shape \* mergeformat
2. cip100易漂洗，省水省时间，有利于环保，并能有效控制清洗费用。
cip100与氢氧化钠漂洗对比图（如下图），首次漂洗即可清除98.6%的清洗剂残留，节省漂洗水50%以上。
shape \* mergeformat
3. cip100有完整的安全数据，多种检测方法，有力支持清洁验证。
· 详细的毒理学文件，提供各种安全数据（ld50或noael）以利于残留限度的计算；
· 检测方法多样，覆盖清洁剂残留的各种限度，适用于各种检测条件；
4. cip100可提供pace（process and cleaner evaluation）服务，有利于快速进行清洁工艺开发。
由以上论述可以看出，选择cip100来进行制药设备的清洗，具有清洗能力强、省水、安全、技术资料完善等优点，有利于优化制药设备清洗工艺，节省清洗时间，降低清洗成本，减少排放。